什么是PVD，PVD和电镀有区别吗，水镀，真空镀，溅镀、涂镀区别

PVD-物理气相沉积利用物理过程实现物质转移，将原子或分子从源转移到基材表面的过程。其功能是将一些特殊性能（强腐蚀性是指喷涂在性能较低的母亲上的颗粒，如耐磨性和耐磨性），使母亲具有更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸镀、溅镀 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

PVD 技术是一种技术含量高、应用广泛的离子涂层技术，具有 涂层致密均匀、附着力强、涂层好、沉积速度快、处理温度低、涂层材料广泛等特点（本章主要阐述PVD 技术在不锈钢和铜表面电镀硬膜HC 应用)是表面处理工程领域的较好选择。

PVD 本身的涂层过程是高温下等离子体场下的光反应，也是高净化处理过程；涂层的主要原料是钛，钛是金属中与人体皮肤较亲和的PVD 产品本身具有纯环保性能。

PVD 可以做成千上万种颜色，甚至可以说自然界中的一些颜色几乎可以使用PVD制定方法。比如金系列:欧洲金（2N18 及1N14）、日本金（GY01）、中国金（GY2N） 等等；咖啡系列：深咖啡、浅咖啡、中咖啡等；黑色系列：枪色、灰色、超黑色等；时尚系列：太空色、芳香色、卡其色等。

一般电镀（冷镀）是指水镀，是较常见的电镀方式，是一个电化学过程，使用正负电极，电流在镀槽、镀金、镀银、镀镍、镀铬、镀镉等，电镀液污染很大。水镀也分为电镀和化学镀两种，电镀一般作为装饰表面，由于亮度高，化学镀表面较暗，一般作为防腐涂层。电镀时，涂层金属作为阳极，氧化成阳离子进入电镀液；待镀金属产品作为阴极，涂层金属阳离子在金属表面恢复形成涂层.为了消除其他阳离子的干扰，使涂层均匀牢固，电镀液应采用含有镀层金属阳离子的溶液，以保持镀层金属阳离子的浓度不变。

真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀。它们都是在真空条件下通过蒸馏或溅射在塑料零件表面沉积各种金属和非金属薄膜。通过这种方式，可以获得非常薄的表面涂层，具有速度快、附着力好的突出优点，但价格也较高，可操作的金属类型较少，一般用作高档产品的功能涂层。

真空蒸发法是在高真空下加热金属，使其熔化蒸发，冷却后在样品表面形成金属膜，涂层厚度为0.8-1.2um。填充成型产品表面的小凹凸部分，以获得像镜子一样的表面。无论是为了获得反射镜的功能而实施真空蒸发，还是为了真空蒸发低密接性的钢，都必须进行底部涂层处理。

飞溅通常是指高速低温飞溅法的磁控飞溅法。该工艺要求真空度为1×10-3Torr左右，即1.3×10- a的真空状态充入惰性气体氩气（Ar），由于光放电，在塑料基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加入高压直流电（glow discharge）产生的电子刺激惰性气体，产生等离子体，等离子体轰炸金属靶材料的原子，沉积在塑料基材上。一般来说，金属涂层主要是直流溅涂，而不是导电陶瓷材料RF交流溅镀。

离子镀是利用气体放电在真空条件下部分电离气体或蒸发物质，并在气体离子或蒸发物质离子的轰击下将蒸发物质或其反应物沉积在基板上的一种方法。包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸发法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。

涂镀

涂层，又称刷涂或无槽电镀，是金属工件表面局部快速电化学沉积金属的技术，其原理和本质属于电化学加工中电镀工艺的范畴。与电解相反，在电场的作用下，电镀液中的金属离子被积在阴极上。

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