项目简介:真空电弧离子镀是将涂层材料作为靶极,在触发装置的帮助下,使靶表面产生电弧放电膜材料在电弧作用下产生无熔池蒸发,沉积在基底上。为实现多层复合膜和梯度功能膜的制备,可根据用户要求配置多个小多弧源、大面积矩形电弧源或旋转柱磁控电弧源。偏压电源采用*新的直流脉冲叠加开关偏压电源,可实现低温沉积(~200℃),涂层工艺的应用范围大大扩大,膜质和膜与基体的结合强度大大提高。
真空电弧离子镀具有以下优点:
(1)蒸发源不产生溶池,具有良好的绕镀性能:可任意设置在涂层室的适当位置,提高沉积层厚度均匀,简化基板旋转机构
(2)入射粒子能量高:膜密度高,强度好,耐磨性好。工件和膜界面有原子扩散,膜附着力高.
(3)离化率高:80%以上,涂层速率高,有利于提高膜基附着力和膜层性能
(4)一弧多用:电弧不仅是蒸发源和离化源,也是加热源和离子溅射清洗的离子源
本技术可制备多种硬涂层,如TiN、TiC、ZrN、CrN、TiCN、(Ti、Al)N、Al2O3,DLC多层复合膜等。研究的离子镀仿金装饰镀层经久耐用,广泛用于日用饰品、建筑五金等领域,离子镀TiN该系列耐磨涂料及其复合涂料具有高硬度、良好的组合强度和耐磨性,广泛应用于高速钢、硬合金工具、模具,可显著提高其使用寿命,提高加工工件的切削效率和表面质量。可制备MCrAlY等抗腐蚀、抗高温氧化涂层和其他功能涂层,应用于燃汽轮机叶片。
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